В России создали литограф для 150-нанометровых чипов  Оригинал

Зеленоградский нанотехнологический центр разработал электронно-лучевую установку, которая позволяет формировать рисунок микросхем прямо на подложке. Два опытных образца уже проходят испытания, которые продлятся до осени.

В России создана первая отечественная установка электронно-лучевой литографии, работающая по проектным нормам 150 нанометров. Разработку вел Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ). Как сообщает CNews, два опытных образца уже проходят комплексные испытания, которые продлятся около четырех месяцев. По словам гендиректора ЗНТЦ Анатолия Ковалева, после этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры.

Главная особенность новой установки — безмасковая литография. В отличие от традиционной фотолитографии, где рисунок переносится через фотошаблон (дорогостоящую стеклянную пластину с непрозрачным узором), электронно-лучевая литография (ЭЛЛ) формирует изображение непосредственно на подложке с помощью сфокусированного пучка электронов. Это позволяет как изготавливать сами фотошаблоны, так и создавать рисунок на кремниевых и других пластинах без использования маски.

Как пояснил гендиректор одного из микроэлектронных предприятий, в безмасочном режиме электронный луч работает как сверхтонкое перо, нанося рисунок микросхемы прямо на пластину. Это даёт гибкость и быстроту для научных разработок и прототипирования — можно менять рисунок без необходимост...